為什么半導體加工生產(chǎn)中會(huì )應用到超純水?
我們都知道,半導體在加工生產(chǎn)的過(guò)程中會(huì )需要一定量的超純水,對于其品質(zhì)的要求也是極高的。那什么是超純水呢?超純水是指一種電阻率達到18 MΩ*cm的一種水,這類(lèi)水幾乎沒(méi)有什么雜質(zhì),不含有任何細菌、病毒等有機物,完全可用在半導體領(lǐng)域。這樣的超純水普通工藝基本很難制取出來(lái),并且對于超純水制取的標準也是極其嚴格的。
對比傳統超純水生產(chǎn)工藝,現如今應用的超純水設備多是采用膜技術(shù),再應用反滲透+EDI系統+拋光混床相結合的工藝來(lái)制取超純水,具有運行成本低,運行可靠的優(yōu)點(diǎn),出水水質(zhì)符合國家電子級超純水標準GBT11446.1-2013EW-Ⅰ標準。
超純水設備引人注目的優(yōu)點(diǎn):
1、有效降低水質(zhì)的離子含量
EDI是一種將離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)相結合的純水制造技術(shù),無(wú)需酸堿再生,是一種新型的脫鹽方式。EDI無(wú)需再生化學(xué)品的再生,運行成本低,EDI系統的自動(dòng)化程度很高,連續工作,出水水質(zhì)好且穩定,出水電阻率≥15MΩ·CM。
2、高品質(zhì)高回收率
設備采用曲線(xiàn)微導力技術(shù),應用超純水膜元件,在拋光段采用陶氏進(jìn)口拋光樹(shù)脂以及自主研發(fā)的除硼專(zhuān)用樹(shù)脂,在保證系統高回收率的同時(shí),有效提高系統的產(chǎn)水水質(zhì)。
3、自動(dòng)化程度高、運行費用低
自動(dòng)化程度高,遇故障立即自停,具有自動(dòng)保護功能,且能耗低、水利用率高、運行成本低。
超純水設備因其結構設計比較緊湊,占地面積小,可以為企業(yè)節省大量的空間得到了許多半導體行業(yè)的歡迎??蓮V泛運用于電子芯片、集成電路及封裝、光伏、晶圓、科研、航空航天、半導體等領(lǐng)域。
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編輯:虞美人 技術(shù):米
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