半導體材料清洗理想水如何實(shí)現？

時(shí)間：2023-11-06

　　半導體材料的導電性介于導體與絕緣體之間，在能源、通信、醫療、集成電路、家用電器、電子設備、計算機等多領(lǐng)域都有很大的應用價(jià)值。半導體材料在制造工藝、設備規范、原材料等多個(gè)方面都有極高的標準要求，產(chǎn)品清洗用水也以?xún)H含有氫氧原子、無(wú)其他任何成分雜質(zhì)的超純水為最佳。超純水由于純凈度高，用作清洗半導體材料能夠避免污染成分或雜質(zhì)對半導體產(chǎn)品質(zhì)量的干擾。

　　清洗半導體所用的超純水可以采用超純水設備來(lái)實(shí)現。超純水設備通過(guò)雙級反滲透系統+EDI模塊+拋光混床系統的處理工藝，嚴格執行國家環(huán)保政策，可確保處理后的水質(zhì)穩定達標。在制備超純水過(guò)程中，該設備具有以下優(yōu)勢：

　　1.采用獨有的靶向離子交換系統針對超純水中難處理的硼及其他離子定向去除；

　　2.膜系統能夠實(shí)現帶電荷運行，離子遷移速度更快，脫鹽效果更優(yōu)；

　　3.采用PLC智能化程序，能靈活進(jìn)行操作，人力投入節約；

　　4.系統運行無(wú)污染物析出，確保了系統內無(wú)死水；

　　5.采用新型均粒樹(shù)脂包填充，高頻電子極板形成強電場(chǎng)運行環(huán)境，有效提高脫鹽率。

超純水設備

　　總的說(shuō)來(lái)，超純水設備能夠達到出水連續、無(wú)酸堿再生、無(wú)人值守、安裝簡(jiǎn)單、操作方便的理想質(zhì)量。在各段處理工藝中，EDI模塊優(yōu)勢顯著(zhù)。該模塊處理不會(huì )產(chǎn)生酸堿廢液，因此不需要再進(jìn)行酸堿中和處理。EDI進(jìn)水為二級反滲透產(chǎn)水，水質(zhì)較好，脫鹽后濃水水質(zhì)仍舊能夠優(yōu)于一級反滲透產(chǎn)水，可回流至一級反滲透產(chǎn)水箱。整個(gè)工藝可以穩定進(jìn)行連續工作，無(wú)需更換樹(shù)脂，高度自動(dòng)化作業(yè)更無(wú)需人工來(lái)操作。通過(guò)超純水設備生產(chǎn)用來(lái)清洗半導體產(chǎn)品的超純水品質(zhì)高、無(wú)污染，是半導體行業(yè)中不可缺少的工具之一。

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　　編輯：柒柒技術(shù)：米

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