EDI超純水設備為集成電路清洗供給優(yōu)質(zhì)超純水

時(shí)間：2023-12-16

　　集成電路是經(jīng)過(guò)氧化、光刻、擴散、外延、蒸鋁等嚴格的技術(shù)工藝處理后，把一定數量電阻、電容、晶體管等電子元件以及它們之間的連線(xiàn)集成在一小塊硅片上，并焊接封裝在一個(gè)管殼內的高精密電子器件。它的體積小、安全性能好、可靠性高，在計算機、電視機、手機、相機等電子設備的生產(chǎn)中有重要作用，能大大提高產(chǎn)品的功能穩定性。

　　集成電路中的各部分電子元件和連線(xiàn)精密程度很高，在制造過(guò)程中一旦遇到灰塵、固體顆粒、金屬雜質(zhì)、有機物等物質(zhì)污染，就極容易形成短路或斷路，導致集成電路損壞并失去原本功能。因此，在清洗集成電路時(shí)，就需要用到高純度的超純水作為清洗用水，來(lái)規避水中含有的顆粒雜質(zhì)、金屬離子、有機物、微生物等成分對集成電路造成污染的風(fēng)險。

EDI超純水設備

　　EDI超純水設備是生產(chǎn)超純水的優(yōu)良產(chǎn)品，主要采用了雙級反滲透系統+EDI模塊的處理工藝，出水電阻率可達16 MΩ*cm(25℃)。雙級反滲透系統可以有效去除水中含有的各類(lèi)金屬離子、細菌、微生物、有機物、礦物質(zhì)等元素，還具有良好的抗污染性能，故障率低、運行穩定。EDI模塊能使系統實(shí)現帶電荷運行，可以加快離子遷移速度，提高設備的脫鹽率。此外，EDI模塊處理不會(huì )有污染物析出，也不會(huì )產(chǎn)生酸堿廢液，它的進(jìn)水為二級反滲透產(chǎn)水，水質(zhì)較好，脫鹽后濃水水質(zhì)仍舊優(yōu)于一級反滲透產(chǎn)水，可回流至一級反滲透產(chǎn)水箱。

　　EDI超純水設備還采用了智能化程序，操作靈活，節約了人力成本，產(chǎn)水質(zhì)量可以進(jìn)行在線(xiàn)監測，運行過(guò)程中也不會(huì )消耗過(guò)多能源。投資EDI超純水設備為集成電路清洗生產(chǎn)需要的超純水，具有生產(chǎn)質(zhì)量穩定、無(wú)污染、能耗低等優(yōu)勢，性?xún)r(jià)比高。

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　　編輯：新奇技術(shù)：加菲

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